SCIENTIFIC RESEARCH

电感耦合等离子体刻蚀(ICP)

发布时间:

2026-04-20

来源:

作者:


设备名称:电感耦合等离子体刻蚀(ICP) 

设备功能: 可用于硅,二氧化硅,氮化硅,碳化硅表面微纳结构的刻蚀

设备参数:适用于最大尺寸为200毫米的晶圆 

设备图片:

是否可提供对外服务

设备联系人:李仕龙

联系方式:13261531690


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