SCIENTIFIC RESEARCH

反应离子刻蚀(RIE)

发布时间:

2026-04-20

来源:

作者:


设备名称:反应离子刻蚀(RIE

设备功能:多种材料提供各向异性干法刻蚀工艺,适用于微米级和纳米级制程工艺 

设备参数:适用于最大尺寸为200毫米的晶圆  

设备图片:

是否可提供对外服务

设备联系人:李仕龙

联系方式:13261531690


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